构成专利侵权行为的要件包括两个方面：
形式条件和实质条件。
一、形式要件主要有：
（1）实施行为所涉及的是一项有效的中国专利；
（2）实施行为必须是未经专利权人许可或者授权的；
（3）实施行为必须是以生产经营为目的。
对于行为人是否具有主观故意并不是形式要件。
但是，可以作为衡量其情节轻重的依据。
构成专利侵权的实质要件，也就是技术条件，实质实施行为是否属于专利的保护范围。
如果行为人所涉及的技术特征属于专利权的保护范围，那么该行为人就构成了专利侵权。
二、主要有以下几种表现形式：
（1）行为人所涉及的技术特征与专利的技术特征全部相同，则构成侵权；
（2）行为人所涉及的技术特征多于专利的技术特征，也构成侵权；
（3）行为人所涉及的技术特征与专利的技术特征有相同的，有相异的，但是，相异的技术特征与专利的技术特征是等效的，仍构成侵权；
否则，不构成侵权。
这里技术特征等效，是指所属技术领域的普通技术人员那能够推断出某两种技术特征彼此替换后，所产生的效果相同。

《最高人民法院关于审理侵犯专利权纠纷案件应用法律若干问题的解释》第十四条